真空电镀工艺

True 空电镀:(英文名:Vacuum Metalizing)，即物理气相沉积(PVD)，即原子在true 空下撞击靶面，达到镀膜的目的。它首先用于光学透镜，如导航望远镜透镜。后来随着技术的提高，扩展到唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀等材料的装饰涂层和表面改性。

分类归档中文名真空电镀英文名Vacuum Metalizing别称名物理气相沉积（PVD）技术分类薄膜技术 > 物理气相沉积(PVD)下属分类物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）> 真空蒸发（真空蒸发）> 磁控溅射（真空溅射）> 离子镀（真空离子镀）

技术特征

适用材料

几乎所有的金属、合金和陶瓷材料。

天然材质会影响真空环境，不适合真空电镀。

除了天然材料，适合真空电镀的材料还有金属材料、软硬塑料(ABS、ABS+PC、PC等。)、复合材料、陶瓷和玻璃。

铝、银和铜是真正空电镀最常用的表面处理。

应用领域

真空蒸发和真空溅射应用。

真空离子镀的应用领域

设计考虑

true 空电镀使用的设备通常价格昂贵，工艺流程复杂，对环境要求高。所以真空电镀的单价比水电镀贵。

真空电镀受设备内真空环境体积的影响，对靶材尺寸有一定要求，不适合大靶材。普通真空腔室内的靶应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft)，3D工件应小于1.2 * 0.5m (3.5m)。

true 空电镀的工件表面必须保持干燥光滑，否则会影响处理效果。

True 空电镀可镀7色，比水电镀更丰富，可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜、喷铜(一种铜锡合金)等多彩效果。一般水电镀只有镀铜(红色)、镀镍(淡黄银)、镀金、镀银、枪镀(黑色、深黑色、浅黑色等单调的颜色。)和镀铬(银白色)。

True 空电镀是最常见的金属表面处理技术。

过程成本

真空电镀工艺复杂，严重依赖人工操作。工件(靶材)需要喷涂、装卸、再喷涂，还取决于工件的复杂程度和数量，所以人工成本很高。

环境效应

真空环境辐射小，环境污染小，所以真空电镀广泛应用于各行业。

工艺流程的详细说明(图解)

步骤:电镀前在工件上喷一层底漆。因为工件是塑料件，注塑过程中会残留空气泡和有机气体，但放置时空气体中的水分会被吸进去。另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属敏感度差，会出现气泡、水泡等不良情况。喷上一层底漆后，会形成光滑平整的表面，消除塑料本身的气泡，这样电镀效果才能显现出来。

真空蒸镀工艺流程

工件>镀前预处理>组装>烘烤>离子轰击>:预熔化>蒸发沉积>:冷却>拾取>后处理>最终产品

True 空溅射电镀工艺

工件>镀前预处理>装配>提取真相空& gt；烘烤和轰击& gt；预熔化>溅射沉积>:冷却>拾取>后处理>最终产品

真空离子镀工艺流程

工件>镀前预处理>装配>提取真相空& gt；烘烤>离子轰击>:离子沉积>:冷却>拾取>后处理>最终产品

例1:香水瓶真空电镀(图形)

示例2:其他相关产品(多张图纸)

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